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全力以赴解决质量问题
Our Approach to Quality
无铅化技术报告
4种相应的技术
ROHM的无铅引脚外层覆盖镀膜工艺使用4项技术。
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<焊球形成技术>
产品:集成电路(FBGA、WCSP)
选用的焊料:锡-银-铜焊料;Sn-3.0%Ag-0.5%Cu
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<电镀技术>
产品:集成电路、光连接模块、半导体激光器、LED/传感器/晶体管/二极管的一部分
选用的焊料:Sn-2%Cu, Sn
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<焊料Dip技术>
产品:分立半导体器件、LED、LED显示器、传感器、钽电容器
选用的焊料:锡-银-铜焊料;Sn-3.0%Ag-0.5%Cu
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<柱体镀膜技术>
产品:贴片式固定电阻器
选用的焊料:锡焊料;Sn
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外层覆盖的无铅镀膜的耐须状结晶性能
ROHM对半导体器件外层覆盖的无铅镀膜选用Sn-2Cu以及Sn和Sn-3Ag-0.5Cu;贴片式无源元件的电极镀膜选用Sn 。 |
半导体器件的引脚规格与外层覆盖镀膜规格
| 产品类别 |
构架材料 |
外层覆盖镀膜 |
镀膜方法 |
| 集成电路 |
Cu合金 |
Sn-2Cu, Sn |
电镀 |
| Fe合金 |
Sn-2Cu, Sn |
电镀 |
| 分立半导体器件 |
Cu合金 |
Sn-2Cu, Sn |
电镀 |
| Fe合金 |
Sn-2Cu, Sn |
电镀 |
| Cu合金 |
Sn-3Ag-0.5Cu |
热浸镀 |
| Fe合金 |
Sn-3Ag-0.5Cu |
热浸镀 |
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<评价结果>
半导体器件Cu合金构架上镀Sn-2Cu和镀Sn ,在常温下保存和在30ºC70%RH的恒温恒湿条件下保存,生成针状结晶。经过150ºC20分钟以上的热处理后没有产生须状结晶。
半导体器件Fe-Ni合金构架上镀Sn-2Cu和镀Sn,经过温度循环试验后,虽然生成了球状结晶,但其大小在35μm以下,而且不再长大。
电阻器 镀Sn,经过与半导体器件Fe-Ni合金构架上镀Sn-2Cu样品相同的温度循环试验后生成球状结晶,但其大小在20µm以下,而且不再长大。
用焊料Dip法形成外层覆盖镀膜的Sn-3Ag-0.5Cu引脚,经过温度循环、恒温恒湿保存、常温保存中任一项耐须状结晶性能评价试验后,均无须状结晶生成。
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