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无铅化技术报告

4种相应的技术

ROHM的无铅引脚外层覆盖镀膜工艺使用4项技术。


<焊球形成技术>
产品:集成电路(FBGA、WCSP)
选用的焊料:锡-银-铜焊料;Sn-3.0%Ag-0.5%Cu



<电镀技术>
产品:集成电路、光连接模块、半导体激光器、LED/传感器/晶体管/二极管的一部分
选用的焊料:Sn-2%Cu, Sn



<焊料Dip技术>
产品:分立半导体器件、LED、LED显示器、传感器、钽电容器
选用的焊料:锡-银-铜焊料;Sn-3.0%Ag-0.5%Cu



<柱体镀膜技术>
产品:贴片式固定电阻器
选用的焊料:锡焊料;Sn






外层覆盖的无铅镀膜的耐须状结晶性能

ROHM对半导体器件外层覆盖的无铅镀膜选用Sn-2Cu以及Sn和Sn-3Ag-0.5Cu;贴片式无源元件的电极镀膜选用Sn 。


半导体器件的引脚规格与外层覆盖镀膜规格
产品类别 构架材料 外层覆盖镀膜 镀膜方法
集成电路 Cu合金 Sn-2Cu, Sn 电镀
Fe合金 Sn-2Cu, Sn 电镀
分立半导体器件 Cu合金 Sn-2Cu, Sn 电镀
Fe合金 Sn-2Cu, Sn 电镀
Cu合金 Sn-3Ag-0.5Cu 热浸镀
Fe合金 Sn-3Ag-0.5Cu 热浸镀

<评价结果>

  • 半导体器件Cu合金构架上镀Sn-2Cu和镀Sn ,在常温下保存和在30ºC70%RH的恒温恒湿条件下保存,生成针状结晶。经过150ºC20分钟以上的热处理后没有产生须状结晶。

  • 半导体器件Fe-Ni合金构架上镀Sn-2Cu和镀Sn,经过温度循环试验后,虽然生成了球状结晶,但其大小在35μm以下,而且不再长大。

  • 电阻器 镀Sn,经过与半导体器件Fe-Ni合金构架上镀Sn-2Cu样品相同的温度循环试验后生成球状结晶,但其大小在20µm以下,而且不再长大。

  • 用焊料Dip法形成外层覆盖镀膜的Sn-3Ag-0.5Cu引脚,经过温度循环、恒温恒湿保存、常温保存中任一项耐须状结晶性能评价试验后,均无须状结晶生成。